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光刻機(jī)概念持續(xù)走弱 新萊應(yīng)材跌超10%
來源：人民財(cái)訊作者：周映彤2025-10-15 09:46

人民財(cái)訊10月15日電，光刻機(jī)概念持續(xù)走弱，截至發(fā)稿，新萊應(yīng)材跌超10%，奧普光電跌停，國林科技、利和興、富創(chuàng)精密等跌幅居前。

責(zé)任編輯： 劉巧玲
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