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光刻機概念強勢拉升,波長光電20%漲停,茂萊光學(xué)等大漲
來源:證券時報網(wǎng)作者:吳永芳2025-09-17 10:10

光刻機概念17日盤中強勢拉升,截至發(fā)稿,波長光電20%漲停,鴻利智匯漲超16%,茂萊光學(xué)、蘇大維格漲超10%,永新光學(xué)、 奧普光電等漲停。

機構(gòu)表示,國內(nèi)晶圓廠建設(shè)潮及美國加大對華出口管制下,光刻機國產(chǎn)化迫在眉睫。2026年底,大陸12英寸晶圓廠的總月產(chǎn)能有望從2023年的217萬片(規(guī)劃產(chǎn)能)增長到超過414萬片。人工智能發(fā)展大幅提升國內(nèi)先進(jìn)制程產(chǎn)能需求。芯片生產(chǎn)產(chǎn)線建設(shè)中,光刻機購置成本最高,達(dá)到設(shè)備總投資的21%—23%。國內(nèi)晶圓廠建設(shè)潮和AI快速發(fā)展帶動國產(chǎn)光刻機需求持續(xù)攀升。

山西證券指出,國產(chǎn)光刻機產(chǎn)業(yè)鏈在政策支持和進(jìn)口替代背景下,具備成長潛力。建議關(guān)注光刻機核心零部件供應(yīng)商,如茂萊光學(xué)、英諾激光、蘇大維格、芯碁微裝等。

責(zé)任編輯: 王智佳
校對: 祝甜婷
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